磁流变抛光不同于传统光学精密抛光方法的4大特点
发布人:管理员 发布时间:2023-06-28
如果大家看了我们之前的文章的话,很容易就会知道:
磁流变液这一概念早Rabinow J在1948年提出的,它是由磁性颗粒、基液和稳定剂组成的悬浮液。
磁流变效应是磁流变液在不加磁场时是可流动的液体,而在强磁场的作用下,其流变特性发生急剧的转变,表现为类似固体的性质,撤掉磁场时又恢复其流动特性的现象。
磁流变抛光技术,正是利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有粘塑行为的柔性“小磨头”与工件之间具有快速的相对运动,当磁流变液流经工件与载液的抛光轮之间形成很小的间隙时,借助于工件与磁流变液之间的剪切力变形力实现对工件表面材料的去除。
和传统光学精密抛光方法相比较,磁流变抛光主要具有以下4大特点:
1、能够获得质量很高的光学表面。
在磁流变抛光过程中,由于磁流变流体的可控制性,可以调节磁流变液固相状态下的屈服应力的大小,这样就有利于产生微小切削作用,而且工件表面层和亚表面层不会产生压应力,因而工件表层不会造成损伤,易得到较高的表面质量。
2、易于实现计算机控制,能够得到比较复杂的面形。
通过控制磁场,可以控制刀具(磁流变液在磁场中形成的“凸起缎带”)的大小、形状及强度,因此能够实现各种面形的加工,并且由于磁场的可控制性,易于实现计算机控制和数控加工。
3、去除效率高。
由于在磁流变液中加入了微细磨料,在可控磁场的作用下,磁流变液相当于形成一个个微型“磨头”对工件材料进行去除。同时磁流变液中存储有足够的水分有利于水解反应的进行。
4、不会存在刀具磨损、堵塞现象。
加工过程中,材料的磨屑随着磁流变液的循环被带走、过滤,而且磁流变液中介质为水和有机盐,不会划伤工件的加工表面,并起到了清洗和冷却的作用。
数控的磁流变抛光技术正是通过计算机控制抛光轨迹、驻留时间以及磁流变液在外加磁场中形成的缎带凸起,来完成的对工件面形误差的修正。磁流变精修抛光与计算机控制精密研磨的组合,重新定义了精密光学工业的加工能和竞争范围,成为目前应用非常广泛的光学零件加工方法。